专利名称：一种TiO纳米阵列薄膜及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：鄂磊,赖柳媛,赵丹,赵巍,李天昊申请号：CN201811618373.X申请日：20181228公开号：CN109665559A公开日：20190423
摘要：本发明提供一种TiO纳米阵列薄膜及其制备方法，包括以下步骤：将化学抛光处理过的金属钛箔（20×20mm），放入80mL反应釜中；将氯化钠（NaCl）加入到去离子水中，搅拌至完全溶解，再加入双氧水（HO），持续搅拌30min；将混合溶液转移至反应釜中，并在140℃下水热反应6h；待反应釜冷却至室温后，取出钛箔并用去离子水冲洗其表面，冲洗完毕后放入烘箱干燥；将干燥后的钛箔放入马弗炉中，在450℃下热处理2h，即可得到TiO纳米阵列薄膜。本发明所制备的TiO纳米阵列薄膜表面由垂直于基底的纳米片构成且制备流程简单易控。
申请人：天津城建大学
地址：300384 天津市西青区津静路26号
国籍：CN
代理机构：天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：高正方
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